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金属含量测试仪器

简要描述:金属含量测试仪器
测试金属含量仪器超的稳定性,超的重复性,可测试Mg;Al;Si;P;S等轻质元素。
X射线光谱金属含量测试仪已经被广泛应用于地质、采矿、金属元素(合金材料、钢铁成分)、土壤、环境、考古、木材、电子、医药、环保等等

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  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-04-07
  • 访  问  量:2006

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详细介绍


我公司销售产品包括X射线荧光光谱仪(含能量色散和波长色散型)(XRF)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP)、原子荧光光谱仪(AFS)、原子吸收分光光度计(AAS)、光电直读光谱仪(OES)、气相色谱仪(GC)、液相色谱仪(LC)、能谱仪(EDS)、频红外碳硫分析仪(CS Analyzer)、矿浆载流在线采样仪(OSA)等。产品主要应用领域有电子电器、五金塑胶、珠宝首饰(贵金属及镀层检测等)、玩具安全(EN71-3等),F963中规定的有害物质:铅Pb、砷As、锑Sb、钡Ba、镉Cd、铬Cr、Hg、硒Se以及氯等卤族元素、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(铜合金铝合金镁合金等)、冶金(钢铁、稀土、钼精矿、其它黑色及有色金属等)、地质采矿(各种矿石品位检测设备)、塑料(无卤测试等)、石油化工、岭土、煤炭、食品、空气、水质、土壤、、商品检验、质量检验、人体微量元素检验等等。总之销售的仪器设备应用于元素分析,化合物测试,电镀镀层厚度检测。

检测钢铁元素成分含量(含各种合金,不锈钢等),简单方便的X荧光光谱仪,精度稳定性更好的是实验室使用的专业测试钢材成分设备的是OES光电直读光谱仪,介绍如下:

金属含量测试仪器

仪器介绍:

   手持式仪器资料:

X射线荧光光谱分析仪已经被广泛应用于地质、采矿、金属、土壤、环境、考古、木材、电子、医药、环保、啤酒、电力、石化、玩具、大型工程。X射线荧光光谱分析仪,有效检的应对有害元素检测、合金分析、矿石分析、环境分析的产品,目前正服务于伊朗核查和欧美各大海关等重要部门。

合金分析仪*性能

. 超的检测精度度。

. 超的稳定性,超的重复性。

. 优异的线性相关性。

. 超过1/3的机体采用铝合金外壳设计,仪器顶部有的槽式散热装置,整个体系使散热非常有效,延长机器寿命, X射线分析仪工作更加更稳定,从而故障率极低。

. SDD X射线探测器具有惊人的计数率,达200000,比普通的Si-Pin X射线探测器获取数据的能力10倍。

. 可测试Mg;Al;Si;P;S等轻质元素。

. 内置的气压计可以纠正气压,气压计压力感应, 可根据不同的压力调整,从而是检测值更加准确,仪器预设海平面,客户在不同的海拔度测试,无需再次校准。

. 内置的加速器可探测运动和震动,使仪器不用时待机,拿起时工作。

. 智能接驳座可对额外电池充电、仪器内置电池同时充电并显示充电进度,接驳座能连接电脑交换数据,可让仪器即时标准化,仪器随时待命状态。

. 仪器即使在开机状态下也可更换电池而并不需要关机,在系统运作中拔掉电池,有超过30秒的时间可以插入一个新电池。

. 仪器开机并不需要标准化,可以直接测试,标准化仅仅是可选项。

. 仪器外壳采用铝合金、塑胶设计,坚固耐用,手柄软胶设计,手感好,更适合长时间使用。

. 仪器具有很好的平衡性,在测试时能立于工作台上,不需要用手扶持,一键式按钮设计,即使长时间操作也无疲劳感。

. 工业级可触摸的显示屏与主机一体化密封设计,可承受野外恶劣的工作环境。密封的仪器可在雨天、尘土飞扬的矿山环境中长时间正常工作。

合金分析仪技术性能

. 真正实现在现场进行无损,快速,准确的检测,直接显示元素的百分比含量。

. 只需将合金分析仪直接接触待测合金表面,无须等待和花费时间即可现场确定合金等级。

. 被检测的样品的对象可以是合金块、合金片、合金线、合金渣、合金粉。

. 不规则或小型样品的补偿性测试方法能检测很小或很少的样品,如直径为0.04mm的细丝也能立即辨认。

. 可延伸的探头设计能对管道内部、焊缝,等位置进行检测。

. 可检测温度达450℃的温材料。

. 可现场在库中添加,编辑,删除合号。

. 快的分析速度, 仅需2秒钟就可识别合金元素。

. 用户化windows CE 6.0系统驱动的微电脑显示系统使所有功能皆可现场完成,用户化windows CE仅保留有基本的windows与Delta系统有关的性能,使程序更具灵活性。

. 无需借助电脑,可在现场随意,查看,放大相关元素的光谱图。

. 防尘,防雾,防水:一体机设计,软胶与塑胶部件凸槽 & 凹槽 构造设计,使仪器具有很好的三防性能,可承受e劣的工作环境,大雾,下雨,尘土飞扬工装场地也能正常工作。

. 更的检测精度,多次测试的平均值统计功能可有效地提仪器的检测精度。

. 超大的图标显示,菜单式驱动,微电脑WINDOWS系统使仪器操作更加简便。

. 电磁干扰被屏蔽,即使在靠近或双向无线通信装置处也能正常工作。

合金分析仪元素分析范围

可分析从从12号元素Mg到94号元素PU之间的所有合金。


合金分析仪器的分析模式与元素种类

分析模式

分析元素

元素分析范围

分析范围:从12号元素Mg镁到94号元素PU范围内的31种基本元素,在以上范围内,可以根据客户需要更换其他元素。

Alloy Beam1模式

, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, W, Hf, Ta, Re, Pb, Bi, Zr, Nb, Mo, Ag, Sn, Sb等21元素。

Alloy Beam2模式

, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, W, Hf, Ta, Re, Pb, Bi, Zr, Nb, Mo, Ag, Sn, Sb PLUS Mg, Al, Si, P等25元素


直读光谱仪简介:

型全谱直读光谱仪采用标准的设计和制造工艺技术,应用了的CMOS信号采集元件,每块CMOS都可以单独设值火花个数,与光谱仪yi流技术同步,采用真空光室设计及全数字激发光源。这款CMOS光谱仪,既包含了CCD光谱仪的全谱特性,又具备PMT光谱仪对非金属元素的极低检出限,整机设计合理,操作简单易学,具有数据,长期稳定性好等优点。

应用领域

冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。

可检测基体

铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。

主要技术参数

v  光学系统:帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统

v  波长范围:140~680nm

v  光栅焦距:401mm

v  探 测 器:性能CMOS阵列/CCD阵列

v  光源类型:数字光源,能预燃技术(HEPS)

v  放电频率:100-1000Hz

v  放电电流:大500A

v  工作电源:AC220V 50/60Hz 1000W

v  检测时间:依据样品类型而定,一般20S左右

v  电极类型:钨材喷射电极

v  分析间隙:4mm

v  其他功能:真空,温度,软件自动控制;压力,通讯监测

主要特点

v  性能光学系统

采用精度的CMOS元件可测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量;测定结果,重复性及长期稳定性hao。

v  自动光路校准

自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作;

仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定。

v  插拔式透镜设计

真空光学系统采用*的入射窗与真空隔离,可在真空系统工作状态下进行操作,光学透镜采用插拔式透镜结构,日常清洗维护方便快捷。

v  真空防返油技术

多级隔离的真空防返油技术,采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空*隔离;中间增加了真空滤油装置,确保真空泵中油不进入真空室,保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。

v  开放式激发台

开放式激发台机灵活的样品夹设计,以满足客户现场的各种形状大小的样品分析;配合使用小样品夹具,线材低分析可达到3mm。

v  喷射电极技术

采用的喷射电极技术,使用钨材料电极,在激发状态下,电极周围会形成氩气喷射气流,这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触,提激发精度;配上du特氩气气路设计,大大降低了氩气使用量,也降低客户使用成本。

v  集成气路模块

气路系统采用气路模块免维护设计,替代电磁阀和流量计,电极自吹扫功能,为激发创造了良好的环境。

v  数字化激发光源

数字激发光源,采用为的等离子激发光源,超稳定能量释放在氩气环境中激发样品;可任意调节光源的各项参数,满足各种不同材料的激发要求。

v  速数据采集

仪器采用性能CMOS检测元件,具有每块CMOS单独超速数据采集分析功能,并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。

v  以太数据传输

计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议,避免电磁干扰,光纤老化的弊端,同时计算机和打印机*外置,方便升级和更换;可以远程监控仪器状态,多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。

v  预制工作曲线

备有不同材质和牌号的标样库,仪器出厂时工厂预制工作曲线,方便安装调试和及时投入生产;根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异,激发和测试参数仪器出厂时已经调节好,根据分析程序可自动选择优测试条件。

v  分析速度快

分析速度快,仅需20秒即可完成一次分析;针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及测量时间,使仪器用短时间达到优的分析效果。

金属含量测试仪器

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