高纯金中杂质元素含量检测仪

高纯金中杂质元素含量检测仪

摘要：高纯金纯度管控离不开精准的杂质元素分析，GB/T25934.1-2010《高纯金化学分析方法 第 1 部分：乙酸乙酯萃取分离-ICP-AES 法测定杂质元素的含量》是国内 99.999% 高纯金杂质检测重要国家标准。深圳市天创美科技有限公司 MICS 全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES），可匹配该标准乙酸乙酯萃取前处理流程，完成银、铝、砷、铋、镉、铬、铜、铁、铱、镁、锰、镍、铅、钯、铂、铑、锑、硒、碲、钛、锌等多类痕量杂质元素定量检测，满足黄金冶炼、贵金属质检、有色金属实验室高纯金样品分析需求。

一、高纯金杂质检测行业背景

高纯金广泛应用于电子半导体、贵金属精炼、造币、新材料等领域，材料品质直接由杂质元素含量决定，99.999% 高纯金需要对二十余种痕量杂质开展精准测定。GB/T25934.1-2010 标准采用混合酸溶解试样，盐酸介质下乙酸乙酯萃取分离基体金，水相浓缩后使用 ICP 光谱设备测定杂质元素谱线强度，以此计算各杂质元素质量分数，测定范围覆盖 0.00002%-0.00100% 区间多元素。

该标准对仪器的检出限、光谱分辨率、长期稳定性、多元素同步检测能力提出较高要求。传统设备容易出现光谱干扰、检出限不足、维护繁琐等问题，难以稳定满足高纯金痕量杂质分析。MICS 全谱直读 ICP-OES 针对无机痕量元素分析场景开发，能够很好适配乙酸乙酯萃取分离前处理后的高纯金待测液测试，助力实验室落实国标检测流程。

二、MICS 全谱直读型 ICP-OES 产品概述

ICP-OES MICS 观测全谱直读型电感耦合等离子体发射光谱仪，是深圳市天创美科技有限公司厂家直供的依托多年光谱仪器研发积淀推出新一代 ICP-OES 产品。设备搭载集成固态射频电源、恒温二维分光系统、科研级制冷防溢出 CCD 检测系统，配套自研光谱校正技术，实现小型化、便捷化、智能化的光谱分析，日常操作与维护简单，适配各类理化实验室分析作业。

ICP-OES（电感耦合等离子体发射光谱仪）作为无机元素分析主流仪器，具备光谱干扰小、分析速度快、稳定性优异的特点，可完成样品元素定性、半定量、精确定量，检出限可达十亿分之一级别。仪器应用场景覆盖环境保护、食品安全、地质矿产、冶金有色金属、稀土、化工、医药、石油、半导体、农业研究，可测定样品中常量、微量、痕量元素含量。

在贵金属检测领域，仪器配合乙酸乙酯萃取分离前处理，可直接用于高纯金样品中 Ag、Al、As、Bi、Cd、Cr、Cu、Fe、Ir、Mg、Mn、Ni、Pb、Pd、Pt、Rh、Sb、Se、Te、Ti、Zn 共 21 种杂质元素检测，匹配 GB/T25934.1-2010 标准测试要求。

三、仪器核心性能特点

1、等离子体系统安全智能，保障高纯样品稳定测试

1）安全可靠固态射频电源：体积小巧，输出效率高，功率输出稳定，集成水路、气路、过载多重安全保护，降低仪器故障概率，提升设备运行安全性。 2）全自动点火及自动匹配技术：软件一键全自动点火，参数自动调整匹配，点火成功率高，简化实验操作。 3）智能化火焰监测：配置高灵敏度光纤传感器，实时监控等离子火焰状态，异常熄火自动关停仪器；搭载全彩色等离子摄像系统，软件端可视化观察等离子体运行状态，可直观查看炬管、中心管结垢情况，便于及时维护。

2、分离式进样系统，适配萃取后复杂基体试液

采用雾室-炬管分体式分离进样架构，规避炬管高温对雾化效率带来的波动影响；加长型雾室强化气液分离，降低水蒸气干扰。配备十五转子五通道全自动蠕动泵，转速连续可调，支持在线样品稀释、在线添加内标，满足高纯金萃取后试液特殊分析需求。 炬管支持快速拆卸，配套工装工具实现一秒炬管定位，保障炬管与线圈同心位置，消除更换炬管带来的信号偏移；可按需选配有机、高盐、耐 HF 酸雾化器、雾室组件，适配各类贵金属前处理样品。 气路采用高精度 MFC 质量流量控制器，等离子气、辅助气、载气精准可控，保障测试数据重复性；具备缺气报警保护，气源耗尽自动熄火，蜂鸣告警保护硬件。

3、精密恒温光学系统，降低高纯痕量测试背景干扰

采用中阶梯光栅 + 棱镜交叉色散二维分光结构，光学部件无移动构件，光室恒温 36℃±0.1℃密封控温，氩气吹扫，大幅提升光学系统长期稳定性。光路焦距 440mm，全反射成像，波长覆盖 165-900nm 全波段；杂散光控制优异，200nm 处光学分辨率≤0.007nm，有效降低高纯金痕量杂质检测背景噪声。 开机软件自动完成波长校正，无需专门校正溶液，减少人为操作误差，适合大批量高纯金样品分析。

4、科研级防溢出 CCD 检测器，高低含量元素同步测量

自主研发百万像素级三级半导体制冷 CCD 检测器，制冷温度-45℃，启动时间小于 3 分钟。像素级背泄式防溢出保护，消除谱线饱和溢出问题，解决高纯基体下高低浓度元素同时测定难题。检测器无化学涂膜，规避涂层老化损耗，延长检测器使用寿命。信号-背景同步智能积分，拓宽动态范围，高低含量杂质元素可一次曝光同时采集。

5、功能完备分析软件，满足国标分析数据处理需求

图形化可视化操作界面，支持定性、半定量、定量全套分析模式；内置 75000 条以上谱线库，可自由挑选分析谱线，完整全谱采集，便于排查光谱干扰。集成外标法、内标法、IEC 干扰校正系数法、标准加入法，适配 GB/T25934.1 标准工作曲线绘制、空白扣除、杂质元素结果计算。 具备仪器全部件状态监控、等离子视频监控；可选审计追踪、多级用户权限、操作日志记录，测试结果支持局域网自动上传至指定电脑，适合第三方检测、质检实验室规范化管理。

四、MICS 全谱直读 ICP-OES 关键技术指标

1、进样系统

· 加长型雾室，低记忆效应，降低背景噪声；高效同心圆雾化器，雾化效率高，记忆效应弱；

· 快速拆卸炬管，工装辅助一秒定位；5 通道 16 滚轴全自动蠕动泵，支持进样、排废、在线内标同步运行；

· 分腔体式进样系统，炬管、雾室物理隔离，实时观察进样状态；多类型*组件可选，适配有机、高盐、耐样品；

· 多路气体采用 MFC 质量流量控制器，精度 0.01L/min；缺气自动熄火蜂鸣报警；火焰视频可视化监测。

2、等离子体系统

· 垂直炬管观测方式；全数字固态射频电源，功率 500-1600W，1W 连续可调，功率稳定性≤0.01%；

· 自动调谐快速匹配，水冷散热；具备智能浓度衰减，最高衰减 100 倍，宽浓度梯度样品无需手动稀释；

· 射频频率＞27.12MHz，频率稳定性≤0.01%。

3、光学系统

· 中阶梯光栅-棱镜交叉色散，无光机移动部件；密封恒温光室 36℃±0.1℃，氩气吹扫；

· 焦距 440mm 全反射光路，波长范围 165-900nm；点火自动谱线校正；

· 杂散光≤2.0mg/L（10000mg/L Ca 溶液 As 188.980nm 测定）；200nm 光学分辨率≤0.007nm。

4、检测系统

· 三级 TEC 半导体制冷 CCD 检测器，制冷-45℃，启动＜3min；像素级背泄防溢出；

· 信号背景同步采集，宽动态范围；检测器无化学涂膜；百万像素以上。

5、整机性能指标

· 分析速度：每分钟≥50 个元素 / 谱线，单次曝光可同时测量近 70 种元素；

· 样品消耗量＜2mL；线性动态范围≥10⁶；支持内标同步曝光校正；

· 精密度：1ppm/10ppm 多元素混合标液，10 次重复 RSD≤0.5%；

· 长时间稳定性 RSD＜1.0%；典型元素检出限可达 0.1μg/L。

五、在高纯金 GB/T25934.1 标准检测中的应用说明

按照 GB/T25934.1-2010 标准流程，高纯金试样经混合酸消解、乙酸乙酯萃取分离除去金基体，合并水相后浓缩定容，得到待测试液。将试液导入 MICS ICP-OES，仪器测量各杂质元素对应谱线强度，软件扣除空白，调用工作曲线得到待测元素浓度，代入标准公式计算杂质元素质量分数，结果可直接导出，完成银、铝、砷、铋、镉、铬、铜、铁、铱、镁、锰、镍、铅、钯、铂、铑、锑、硒、碲、钛、锌多元素测定。

备注：仪器仅提供光谱检测能力，样品前处理（酸溶、乙酸乙酯萃取分离等）需要实验室按照国标方法完成；本文参数仅作科普参考，最终交付标准以采购合同为准。

六、适用行业与应用方向

1. 黄金冶炼、贵金属精炼企业：高纯金出厂杂质质控检测；

2. 计量院、质检院、第三方贵金属检测实验室：依据 GB/T25934 系列标准开展高纯金检测；

3. 造币、有色金属研究院：贵金属新材料研发分析；

4. 半导体、电子材料企业：高纯金原料痕量杂质验收分析。

七、结语

高纯金的痕量杂质检测对仪器灵敏度、抗干扰能力、多元素同步分析能力提出严苛要求。深圳市天创美科技 MICS 全谱直读 ICP-OES 电感耦合等离子体发射光谱仪，硬件性能、软件功能可以很好匹配 GB/T25934.1-2010 乙酸乙酯萃取分离-ICP 光谱法的检测仪器需求，帮助贵金属分析实验室高效、稳定完成高纯金中二十余种杂质元素定量分析，同时可兼顾地质、环境、化工等多领域无机元素检测，实现一机多用。

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