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全谱直读等离子体发射光谱仪

简要描述:全谱直读等离子体发射光谱仪
OES全谱直读光谱仪应用CCD/CMOS光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制,炉前化验,中心实验室成品检验。
OES落地式全谱真空式直读光谱仪体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便,是控制产品质量的理想选择。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-03-19
  • 访  问  量:999

详细介绍

全谱直读等离子体发射光谱仪

OES直读光谱仪介绍:

OES全谱真空型直读光谱仪器优势:

1CCD/CMOS全谱光谱仪制造技术(数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术)、通道不受限制 ;

2、国内生产真空CCD/CMOS全谱技术光谱仪的制造商;

3、基体范围内通道改变、增加不需费用

4、升级多基体方便,无须变动增加硬件 ;

5、优良的数据稳定性,同一样品不同的时间段分析,可获得良好的数据一致性 ;

6、体积小、重量轻, 移动安装方便 ;

7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ;

OES全谱真空型直读光谱分析主要特点:

1、可测定包括痕量碳(C),磷(P,硫(S)元素,适用于多种金属基体,如:铁基,铝基,铜基,镍基,铬基,钛基,镁基,锌基,锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围,可根据客户需要选择通道元素;

2、分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用短的时间达到优的分析效果;

3、光学系统采用真空恒温光室, 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室,实现光路直通,消除了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定

4、特殊的光室结构设计,使真空室容积更小;

5、自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;

6、开放式的电极架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;

7、工作曲线采用国际标样,预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,自动扣除干扰;

8HEPS数字化固态光源,适应各种不同材料 ;

9、固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;

10、铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;

11、合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气;

12、采用钨材料电极,电极使用寿命更长,并设计了电极自吹扫功能,清洁电极更加容易;

13、高性能DSPARM处理器,具有高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块 的运行状况;

14、仪器与计算机之间采用以太网连接,抗干扰性能好,外部计算机升级与仪器配置无关,使仪器具有更好的适用性;

15、核心器件全部原装,保证了仪器优秀品质。

OES落地式全谱直读光谱仪产品参数指标

光学系统-光学结构

帕邢-龙格结构

光学系统-探测器

多块高性能线阵

激发台

冲氩式

氩气流量

激发时3-5L/min, 待机时:无须待机流量

钨材喷射电极技术

点击自吹扫功能

热变形自补偿设计

激发光源

HEPS数字化固态光源

100-1000Hz

放电电流

1-80A

特殊技术

放电参数优化设计

高能预燃技术

数据采集系统-处理器

ARM处理器,高速数据同步采集处理

数据采集系统-接口

基于DM9000A的以太数据传输

电源与环境要求

220VAC,50Hz

分析时700W,待机状态40W

工作温度

10-30℃(该温度范围内温度变化不大于5℃/h)

工作湿度

20-80%

尺寸与重量

主机尺寸

800*750*500 mm

120Kg

OES直读光谱仪应用领域


OES全谱直读光谱仪应用CCD/CMOS光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制,炉前化验,中心实验室成品检验。

OES落地式全谱真空式直读光谱仪体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便,是控制产品质量的理想选择。


全谱直读等离子体发射光谱仪



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