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电镀层膜厚分析仪器

简要描述:电镀层膜厚分析仪器
X荧光镀层膜厚分析机器固定种类大小:可选0.1,0.2,0.3,0.4,1X0.4mm
自动种类大小:可选0.1,0.2,0.3,0.4,0.05X0.4mm
分析膜厚仪器可分析单层镀层,双层镀层,三层镀层, 合金镀层.

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-11-06
  • 访  问  量:1463

详细介绍

电镀层膜厚分析仪器

可测电镀元素范围:
钛– 铀(U)

可测量厚度范围:
原子序22-25,0.1-0.8μm   电镀层膜厚分析仪器
26-40,0.05-35μm
43-52,0.1-100μm
72-82,0.05-5μm
X-射线管:油冷,超微细对焦  
压:0-50KV(程控)
准直器:
固定种类大小:可选0.1,0.2,0.3,0.4,1X0.4mm

自动种类大小:可选0.1,0.2,0.3,0.4,0.05X0.4mm
电脑系统:IBM相容,17"显示器
综合性能:镀层分析  
镀层分析:可分析单层镀层,双层镀层,三层镀层, 合金镀层.

定性定量分析:可定性分析20多种金属元素,并可定量分析成分含量.
光谱对比功能:可将样品的光谱和标准件的光谱进行对比,可确定样品与标准件的差别,从而控制来料的纯度.
统计功能:能够将测量结果进行系统分析统计,方便有效的控制品质.  
多年来,我们一直致力于为PCB 厂商,电镀行业,科研机构,半导体生产等电子行业提供性能的仪器和的售后服务。让客户满意,为客户创造大的价值是我们始终追求的目标,因为我们坚信,客户的需要就是我们前进的动力。愿我们成为真诚的合作伙伴、共同描绘双方的发展蓝图!

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