电镀层膜厚分析仪

电镀层膜厚分析仪镀层检测：

2.1、常见金属镀层有：

2.2、单层厚度范围：

金镀层0－8um,

铬镀层0-15um,

其余一般为0-30um以内，

可最小测量达0.001um。

2.3、多层厚度范围

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

2.4、镀层层数为1-6层

2.5、镀层精度相对差值一般<5%。

2.6、镀层成分含量：Sn-Pb合金成分分析；Zn-Ni合金成分分析。

单层分析精度，以Ni举例：（相对差值）

可测电镀元素范围：
钛() – 铀(U)

适用范围

用于电子元器件，半导体，PCB，FPC，LED支架，汽车零部件，功能性电镀，装饰件，连接器，端子，卫浴洁具，首饰饰品……多个行业表面镀层厚度的测量等

可测量厚度范围：
原子序22-25，0.1-0.8μm   电镀层膜厚分析仪
26-40，0.05-35μm
43-52，0.1-100μm
72-82，0.05-5μm
X-射线管：油冷,超微细对焦
压：0-50KV(程控)
准直器：
固定种类大小:可选0.1,0.2,0.3,0.4,1X0.4mm

自动种类大小:可选0.1,0.2,0.3,0.4,0.05X0.4mm  
电脑系统：IBM相容,17"显示器
综合性能:镀层分析  
镀层分析:可分析单层镀层,双层镀层,三层镀层, 合金镀层.
镀液分析:可分析镀液的主成份浓度(如镀镍药水的镍离子浓度,镀铜药水的铜离子浓度等),简单的核对方式,无需购买标准药液.

定性定量分析:可定性分析20多种金属元素,并可定量分析成分含量.
光谱对比功能:可将样品的光谱和标准件的光谱进行对比,可确定样品与标准件的差别,从而控制来料的纯度.
统计功能:能够将测量结果进行系统分析统计,方便有效的控制品质.