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韩国电镀膜厚检测仪精度高

简要描述:韩国电镀膜厚检测仪精度高
我公司销售产品包括X射线荧光光谱仪(含能量色散和波长色散型)(XRF)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP)、电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS) 、原子荧光光谱仪(AFS)、原子吸收分光光度计(AAS)、光电直读光谱仪(OES)、气相色谱仪(GC)、气相质谱仪(GC-MS)、液相色谱仪(LC)、液相质谱仪(LC-MS)、能谱仪(EDS)、高频红外碳硫分析仪(CS)等等

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-05-10
  • 访  问  量:1019

详细介绍

韩国电镀膜厚检测仪精度高

应用领域

分析各种电镀镀层厚度

镀层检测:

2.1、常见金属镀层有:

镀层

基体

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

2.2、单层厚度范围:

金镀层0-8um,

铬镀层0-15um,

其余一般为0-30um以内,

可最小测量达0.001um。

2.3、多层厚度范围

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

2.4、镀层层数为1-6层

2.5、镀层精度相对差值一般<5%。

2.6、镀层成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

单层分析精度,以Ni举例:(相对差值)

Ni层厚度(um)

保证精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

技术指标

多镀层分析,1~5层;

测试精度:0.001 μm;

元素分析范围从铝(Al)到铀(U);

测量时间:10~30秒;

SDD探测器,能量分辨率为125±5eV;

探测器Be窗0.5mil(12.7μm);

微焦X射线管50kV/1mA,钼,铑靶(高配微焦钼靶);

6个准直器及多个滤光片自动切换;

高清CCD摄像头(200万像素),准确监控位置;

多变量非线性去卷积曲线拟合;

高性能FP/MLSQ分析;

仪器尺寸:450×520×385mm。

图谱界面

软件支持无标样分析;

宽大分析平台和样品腔;

集成了镀层分析界面和合金成份分析界面;

采用多种光谱拟合分析处理技术;

镀层测厚分析可达到0.001μm。

分析报告结果

直接打印分析报告;
报告可转换为PDF,EXCEL格式。

韩国电镀膜厚检测仪精度高


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