详细介绍
钨矿石、钼矿石化学元素成分检测仪
在矿产资源开发与利用领域,准确测定钨矿石、钼矿石中的元素成分至关重要。基于X射线荧光光谱法(XRF)和电感耦合等离子体光谱法(ICP)的钨矿石、钼矿石元素成分检测仪,凭借其优势成为行业得力工具。
XRF检测仪基于X射线与物质相互作用产生荧光X射线的原理工作。当高能X射线照射到钨矿石、钼矿石样品表面时,样品中的原子内层电子被激发,外层电子跃迁*空位,释放出具有特定能量的荧光X射线。不同元素发出的荧光X射线能量不同,通过检测这些射线的能量和强度,就能确定样品中元素的种类和含量。
该检测仪具有诸多优点。首先,它是一种无损检测技术,无需对样品进行复杂的预处理,保留了样品的原始状态,减少了因样品处理带来的误差。其次,检测速度快,能在短时间内完成对多种元素的同时分析,大大提高了检测效率,适合大规模矿石样品的快速筛查。再者,操作相对简便,对操作人员的技术要求不高,经过简单培训即可上手。此外,仪器稳定性好,长期使用仍能保持较高的检测精度。不过,XRF检测仪对于轻元素的检测灵敏度相对较低,且在分析复杂基体样品时可能存在基体效应干扰,需要采用合适的校正方法。
仪器技术性能
真正实现在现场进行无损,快速,准确的检测,直接显示元素的ppm含量与百分比含量。
只需将矿石分析仪直接接触待测矿石表面,无须等待和花费时间即可现场确定矿石等级。
被检测的样品的对象可以是矿石、岩石、矿渣、碎片;土壤、泥土、泥浆;粉尘、灰尘、过滤物、薄膜层;废水、废油等等的固体、液体物质。
快的分析速度, 仅需2秒钟就可识别元素。
用户化windows CE 6.0系统驱动的微电脑显示系统使所有功能皆可现场完成,用户化windows CE仅保留有windows与Delta系统有关的性能,使程序更具灵活性。
无需借助电脑,可在现场随意,查看,放大相关元素的光谱图。
防尘,防雾,防水:一体机设计,软胶与塑胶部件凹凸槽构造设计,使仪器具有很好的三防性能,可承受恶劣的工作环境,大雾,下雨,尘土飞扬工装场地也能正常工作。
超大功率。40KV,100mA高达4W的大功率X射线管技术使仪器具有更低检测下限。
腰带、枪套、肩带能将仪器牢牢地固定在你的腰部,可在野外活动自如。
更高的检测精度,多次测试的平均值统计功能可有效地提高仪器的检测精度。
超大的图标显示,菜单式驱动,微电脑WINDOWS系统使仪器操作更加简便。
电磁干扰被屏蔽,即使在靠近手机或双向无线通信装置处也能正常工作。
仪器元素分析范围
可分析从从镁(Mg)到钚(Pu)之间的所有83种元素。
仪器分析模式与元素种类 | ||
分析模式 | 分析元素 | |
元素分析范围 | 分析外围:从12号元素Mg到94号元素PU范围内的34种基本元素,在以上范围内,可以根据客户需要更换其他元素。 | |
Mining模式 (%含量) | Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, As, Zr, Mo, Ag, Cd, Sn, Sb, W, Pb, Bi等19元素。 | |
Two beam mining模式 (%含量) | Mg, Al, Si, P, S, Cl、K、Ca、Ti、Mn等10元素 | |
Soil模式 (ppm含量) | Beam1 | Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, As, Se, Rb, Sr, Zr, Mo, Ag, Cd, Sn, Sb, Ba, Pt, Au, Hg, Pb 等23元素 |
Beam2 | Ti, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn, As, Se, Rb, Sr, Zr, Mo, Ag, Cd, Sn, Sb, W, Hg, Pb, Bi, Th, U等24元素 | |
Beam3 | P、S、Cl、K、Ca、Ti、Cr 、Mn、Fe、I、Ba 等11元素 |
ICP光谱仪利用高频电感耦合等离子体作为激发光源,将样品溶液雾化后引入等离子体,样品中的原子被激发至高能态,当原子从高能态跃迁回低能态时,会发射出特定波长的光谱线。通过检测这些光谱线的波长和强度,就能确定样品中元素的种类和含量。
ICP光谱仪的检测精度好,能够准确测定钨矿石、钼矿石中痕量元素的含量,对于研究矿石的成因、品质评估等具有重要意义。它的线性范围宽,可同时分析高、低含量元素,满足不同矿石样品的检测需求。而且,基体干扰小,对复杂基体样品的适应性强。但ICP光谱仪需要对样品进行溶解等预处理,操作过程相对复杂,且仪器成本较高,运行维护费用也相对昂贵。
无论是基于X射线荧光光谱法还是ICP光谱法的钨矿石、钼矿石元素成分检测仪,都在矿石分析领域发挥着重要作用,用户可根据实际需求选择合适的仪器。
仪器技术参数:
1、输入电源:电压交流220V,电流20A。
2、采用CzernyTurner型光路,焦距为1000mm。
3、离子刻蚀全息光栅,刻划面积(80×110)mm。
4、全自动一键点火,自动匹配,点火稳定、便捷。
5、采用同心圆雾化器搭配旋流雾室,1ppmMn强度>1000000cps。
6、分辨率(Mn257、610nm):≤0、005nm(4320刻线光栅);≤0、008nm(3600刻线光栅);≤0、015nm(2400刻线光栅)。
7、波长范围:190-460nm(4320刻线光栅);190-500nm(3600刻线光栅);190-800nm(2400刻线光栅)
8、自主研发全固态射频电源,输出功率800-1600W,连续可调,电源效率大于65%,工作频率27、12MHz,频率稳定性<0、05%,功率输出稳定性<0、05%。
详细指标参数如下:
光栅刻线 | 光栅:2400刻线 | 光栅:3600刻线 | 光栅:4320刻线 | |
波长 | 范围 | 190nm-800nm | 190nm-500nm | 190nm-420nm |
示值误差 | ±0.03nm | ±0.03nm | ±0.03nm | |
重复性 | ≦0.005nm | ≦0.005nm | ≦0.005nm | |
最小光谱带宽 | Mn 257.610nm 半高宽≦0.030nm | Mn 257.610nm 半高宽≦0.015nm | Mn 257.610nm 半高宽≦0.007nm | |
检出限/(ug/L) | Zn(213.856nm)≦ 3.0 Ni(231.604nm)≦ 10.0 Mn(257.610nm)≦ 2.0 Cr(267.716nm)≦ 7.0 Cu(324.754nm)≦ 7.0 Ba(455.403nm)≦ 1.0 | Zn(213.856nm)≦ 3.0 Ni(231.604nm)≦ 10.0 Mn(257.610nm)≦ 2.0 Cr(267.716nm)≦ 7.0 Cu(324.754nm)≦ 7.0 Ba(455.403nm)≦ 1.0 | Zn(213.856nm)≦ 3.0 Ni(231.604nm)≦ 10.0 Mn(257.610nm)≦ 2.0 Cr(267.716nm)≦ 7.0 Cu(324.754nm)≦ 7.0 Ba(455.403nm)≦ 1.0 | |
重复性 | 3号溶液 RSD≤1.5% | 3号溶液 RSD≤1.5(%) | 3号溶液 RSD≤1.5(%)) | |
稳定性 | 3号溶液 RSD≤2% | 3号溶液 RSD≤2% | 3号溶液 RSD≤2% |
说明:下表为检定用溶液标准
表A.1 检定波长用标准溶液
元素 | Se | Zn | Mn | Cu | Ba | Na | Li | K |
波长/nm | 196.026 | 213.856 | 257.610 | 324.754 | 455.403 | 588.995 | 670.784 | 766.491 |
浓度/(mg/L) | 10.0 | 10.0 | 5.00 | 5.00 | 5.00 | 20.0 | 10.0 | 20.0 |
注:基体为0.5mol/L硝酸 1.光栅刻线为2400L/mm时波长检定以上元素 2.光栅刻线为3600L/mm时波长检定元素不含Li、Na、K。 |
表A.2 工作曲线系列标准溶液 单位:mg/L
元素 | Zn | Ni | Mn | Cr | Cu | Ba |
1号 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
2号 | 1.00 | 1.00 | 0.50 | 1.00 | 0.50 | 0.50 |
3号 | 2.00 | 2.00 | 1.00 | 2.00 | 1.00 | 1.00 |
4号 | 5.00 | 5.00 | 2.50 | 5.00 | 2.50 | 2.50 |
注:基体为0.5mol/L硝酸 |
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